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碳化硅MOS性能的优势与技术的难点
来源: | 作者:张工 | 发布时间: 2025-03-26 | 121 次浏览 | 分享到:

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碳化硅(SiC)作为一种第三代宽禁带半导体材料,在电力电子器件中展现出显著优势。以下从静态参数和动态参数两方面分点说明其性能优势:

一、静态参数优势

1、宽禁带特性(材料更“坚韧”)

禁带宽度(3.26 eV,是硅的3倍):

高温稳定性:禁带宽度是材料抵抗热激发的能力。禁带越宽,电子更难被热激发到导带,因此碳化硅器件在高温(如200°C以上)下仍能稳定工作,而硅器件在150°C以上性能会显著下降。例如,电动汽车电机控制器无需复杂冷却系统即可在高温引擎舱运行。

高击穿电场强度(3 MV/cm,是硅的10倍):击穿电场强度决定了材料能承受的最大电压。碳化硅的高击穿场强允许器件设计得更薄、更小。例如,同样耐压的器件,碳化硅的厚度仅为硅的1/10,从而降低导通电阻,减少能量损耗。

2、 高热导率(散热能力卓越)

导热系数(4.9 W/cm·K,是硅的3倍):

碳化硅能快速将热量从芯片内部传导到外部散热器,减少器件因高温失效的风险。例如,在光伏逆变器中,碳化硅器件即使长时间满负荷运行,也无需额外液冷系统,仅需风冷即可。

这一特性对高功率密度场景(如电动汽车电机驱动模块)尤为重要,可缩小散热器体积,降低系统重量。

3、 高电子饱和漂移速度(电流流动更快)

电子饱和速度(2×10 cm/s,是硅的2倍):

电子在材料中移动的速度越快,导通电阻越低。例如,碳化硅MOSFET的导通损耗比硅IGBT低50%以上,适合需要长时间导通的高压场景(如高铁牵引变流器)。这一特性还支持高频工作,例如在快充桩中,碳化硅器件可实现更高的开关频率,缩短充电时间。

4、 化学稳定性与抗辐射性(适应极端环境)

碳化硅耐高温、耐腐蚀,在强酸、强碱或辐射环境下不易老化。例如:

航天器电源系统需在太空辐射和极端温度下运行,碳化硅器件寿命远超硅基器件;

核电站传感器电路因抗辐射需求,广泛采用碳化硅元件。

二、动态参数优势

1、开关速度更快(能量损耗骤降)

开关损耗极低(硅器件的1/5~1/10):

传统硅基IGBT在开关过程中会因拖尾电流产生大量损耗,而碳化硅器件(如MOSFET)开关速度极快(纳秒级),损耗可忽略不计。例如,在数据中心电源中,碳化硅可将转换效率从95%提升至99%,显著降低电费。高频能力(MHz级别)支持更快的能量转换,例如无线充电系统可因高频工作减少线圈体积。

2、 反向恢复特性优异(消除“电流回弹”问题)

碳化硅肖特基二极管(SBD)无反向恢复电流

传统硅二极管在关闭时,存储的电荷会形成反向电流(反向恢复电流),导致额外损耗和发热。碳化硅二极管几乎无此现象,特别适合高频整流。例如,在太阳能逆变器中,使用碳化硅二极管可减少10%~20%的开关损耗。

3、 导通电阻随温度变化小(高温不“掉链子”)

导通电阻(R<sub>DS(on)</sub>)的温度系数低

硅基器件(如IGBT)在高温下导通电阻急剧上升,导致效率下降。而碳化硅器件的导通电阻随温度变化平缓,例如在150°C时,其导通损耗仅比室温高20%,而硅器件可能翻倍。这一特性对电动汽车电机控制器尤为重要,因电机舱高温环境可能导致硅器件效率骤降,但碳化硅仍能稳定输出。

4、 高频工作能力(缩小体积,提高功率密度)

高频化与磁性元件小型化

高频开关(如100 kHz以上)可大幅降低电感、变压器等被动元件的体积。例如,传统硅基充电器的变压器体积占整体的30%,而碳化硅高频方案可将其缩小至10%,实现手机快充头的小型化。

在航空航天领域,高频碳化硅电源模块可减少设备重量,提升有效载荷。

三、综合应用优势(实际场景举例)

1、新能源汽车

续航提升:碳化硅电机控制器将整车效率提升5%~10%,同等电池容量下续航增加30~50公里。

充电速度:800V高压快充平台依赖碳化硅器件,支持15分钟充电至80%。

2、 光伏与储能

发电量增益:碳化硅逆变器效率高达99%,相比硅基逆变器,25年生命周期内多发电数万度。

夜间损耗降低:无反向恢复电流的特性减少待机损耗,适合储能系统长期静置。

3、 工业与电网

高压直流输电(HVDC):碳化硅器件耐高压、低损耗,可减少输电线路的能量浪费。

变频器与伺服驱动:高频特性提升电机控制精度,适用于机器人、精密机床。

碳化硅通过材料本质优势(宽禁带、高导热、耐高压)和器件动态性能(高频低损、高温稳定),在效率、体积、可靠性三个维度全面超越硅基器件。其应用正从高端领域(航天、军工)向民生场景(电动车、家电)渗透,成为实现“双碳”目标的关键技术之一。但其制造与应用仍面临多重技术挑战。以下是分点说明及具体示例:

1、材料生长与缺陷控制

晶体生长难度:SiC单晶需在2000°C以上高温下生长,易产生微管缺陷(如直径数微米的空洞),导致器件局部击穿。例如,早期SiC衬底微管密度高达100/cm²,显著降低器件良率。

外延层缺陷:外延生长时易引入基平面位错(BPD),在高压下转化为堆垛层错(如三角形缺陷),导致漏电流剧增。例如,BPD密度超过10³/cm²时,器件反向漏电可能增加数倍。

2、栅氧层界面质量

高界面态密度:SiC/SiO界面态密度(10¹¹~10¹² eV¹cm²)远高于硅,导致沟道迁移率低下(仅5-30 cm²/V·s,约为硅MOSFET的1/10)。例如,栅极电压波动时,阈值电压偏移可达0.5V以上。

栅氧可靠性问题:高温氧化过程中残留碳团簇引发局部电场集中,降低栅氧寿命。例如,在15MV/cm电场下,SiC栅氧寿命可能比硅基少两个数量级。

3、高硬度材料的工艺挑战

刻蚀与离子注入:SiC硬度(莫氏9.5)导致干法刻蚀速率低(如SF/O等离子体刻蚀速率仅100nm/min),需高能离子长时间处理,可能损伤器件结构。

掺杂激活困难:铝(P型)注入后需1600°C退火激活,但高温易引发表面粗糙化,掺杂激活率仅约30%,接触电阻高达10³ Ω·cm²,增加导通损耗。

4、器件可靠性问题

短路耐受能力弱:SiC的高热导率使短路时温度骤升(如5μs内达600°C),耐受时间不足硅器件的1/3(典型值约3μs),易热失效。

体二极管退化:体二极管反向恢复时双极导通引发堆垛层错(如4H-SiC中扩展的Shockley型缺陷),导致导通电阻随时间增加20%以上。

5、高温封装与散热

封装材料限制:传统焊料(如SnAgCu)熔点低(~220°C),高温下易蠕变失效,需银烧结技术(熔点960°C)实现稳定连接。

散热设计:高功率密度(如电动汽车逆变器达300W/cm²)需采用氮化铝(AlN)基板(导热率180W/m·K)配合微通道液冷,避免结温超过175°C限值。

6、成本与测试挑战

衬底成本:6英寸SiC衬底价格约1000美元,是硅片的20倍,因长晶速度慢(0.5mm/h)且加工损耗高(切割损耗达50%)。

7、可靠性评估:高温高场强下器件退化机制复杂,需开发专用测试方法(如HTGB高温栅偏测试)模拟实际工况。

这些技术难点相互关联,需材料、工艺、设计等多领域协同突破,方能充分发挥SiC器件的性能优势。


SiC MOS

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