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材料工艺 | 碳化硅功率模块封装材料、参数特性、对仿真的影响
来源: | 作者:杨工 | 发布时间: 2026-01-12 | 176 次浏览 | 分享到:

要详细解析碳化硅功率模块的封装材料、参数特性及对仿真的影响,需结合附件的封装结构(SiC 芯片→焊料→Cu→Si₃N₄→Cu→焊料→Cu 合金散热底板)和 AMB/DBC 基板特性展开:

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 1 功率模块封装材料及参数特性

从附件的 7 层封装结构,逐一解析材料的基础参数、特性:

封装层级
材料
核心参数(典型值,附件因模糊需补充行业通用值)
材料特性
1. SiC 芯片
SiC MOS
厚度:~0.75mm;密度:3210 Kg/m³;热导率:~350 W/(mK);比热容:~700 J/(KgK)
宽禁带半导体,热导率远高于 Si(Si 仅 150 W/(mK)),但厚度薄、热容量有限;需注意不同规格尺寸差异小(附件备注)。
2. 芯片焊料
锡基合金(如 SAC305)
厚度:~0.1mm;密度:7300 Kg/m³;热导率:~50 W/(mK);比热容:~200 J/(KgK)
连接芯片与 Cu 层的界面材料,热导率低、厚度薄,是封装中典型的 “热阻瓶颈” 之一;易出现热疲劳(界面分层)。
3. Cu 层
纯铜
厚度:~0.3mm;密度:8960 Kg/m³;热导率:~401 W/(mK);比热容:~385 J/(KgK)
高导热、高导电的过渡层,用于快速扩散芯片热量;延展性好,但需匹配陶瓷基板的热膨胀系数(CTE)。
4. Si₃N₄层
氮化硅陶瓷(AMB 基板核心)
厚度:~0.32mm;密度:3100 Kg/m³;热导率:~90 W/(mK);比热容:~750 J/(KgK)
AMB 基板的陶瓷基底,热导率远高于 DBC 常用的 Al₂O₃(仅 20 W/(mK));机械强度高、抗热震性好(附件中 SiC 模块以 Si₃N₄为主)。
5. Cu 层
纯铜
同层级 3
与 Si₃N₄陶瓷钎焊(AMB 工艺),形成 “Cu-Si₃N₄-Cu” 的 AMB 基板结构,增强基板的导热与载流能力
6. AMB 焊料
活性金属钎焊合金(如 Ag-Cu-Ti)
厚度:~0.05mm;密度:~8500 Kg/m³;热导率:~150 W/(mK);比热容:~250 J/(KgK)
AMB 工艺的核心连接层,通过活性元素(Ti/Zr)与 Si₃N₄化学反应实现冶金结合,结合强度远高于 DBC 的共晶结合。
7. 散热底板
Cu 合金(如 Cu-Mo-Cu)
厚度:~5mm;密度:~8500 Kg/m³;热导率:~200 W/(mK);比热容:~400 J/(KgK)
大体积散热结构,热容量大、用于最终热量导出;CTE 需匹配 AMB 基板,避免热循环下的应力失效。


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 2 材料参数对仿真的影响

功率模块仿真(热仿真、应力仿真、电仿真)的精度,高度依赖封装材料的参数,以下分维度解析:

1. 对热仿真的影响

热仿真的核心是计算 “温度分布、热阻、结温波动”,材料参数的影响如下:

  • 热导率(k)

敏感点:焊料(k≈50)、Si₃N₄(k≈90) 是热阻的主要贡献者(热阻公式 ,d 为厚度,S 为面积);若将 Si₃N₄替换为 DBC 的 Al₂O₃,热阻会翻倍,仿真中结温会显著升高。

  • 易错点:SiC 芯片的 k(350)远高于 Si,但厚度薄(0.75mm),若忽略其热阻会导致仿真误差;Cu 层的高 k(401)可快速扩散热量,需准确设置以体现 “热扩散” 效果。

  • 厚度(d)

    • 焊料、AMB 焊料的厚度极薄(0.1mm/0.05mm),但热阻与厚度正相关,若仿真中简化为 “无厚度界面”,会低估界面热阻、导致结温仿真值偏低。

  • 比热容(C)

    • 影响瞬态热仿真的温度波动:散热底板的 C 大、热容量高,瞬态工况下温度上升更平缓;SiC 芯片的 C 小,功率波动时结温会快速变化,若忽略会低估瞬态结温峰值。
  • 密度(ρ)

    • 与比热容共同决定热容量(,V 为体积),影响瞬态热响应速度;例如 Cu 合金底板的 ρC 大,是 “热缓冲” 的核心,仿真中需准确设置以匹配实验的温度变化速率。

2. 对应力 / 可靠性仿真的影响

功率模块的失效多源于 “热循环下的热应力”,材料参数的影响集中在热膨胀系数(CTE)弹性模量(E)

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  • CTE 匹配性

    • 材料 CTE 差异:SiC(4.5 ppm/K)、Si₃N₄(3.2 ppm/K)、Cu(17 ppm/K)、Cu 合金(16 ppm/K)的 CTE 差异大;AMB 工艺中,Si₃N₄的 CTE 更接近 SiC,应力远小于 DBC 的 Al₂O₃(CTE≈7 ppm/K)
    • 仿真影响:若 CTE 参数错误,会导致 “界面剪切应力” 计算偏差,例如 Si₃N₄与 Cu 的 CTE 差若被高估,会错误预测 AMB 基板的分层风险。

  • 弹性模量(E)

    • Si₃N₄的 E(~300 GPa)远高于 Cu(~110 GPa),是应力集中的核心区域;仿真中若 E 设置偏低,会低估 Si₃N₄的开裂风险。
  • 焊料的塑性 / 蠕变特性

    • 芯片焊料是 “塑性变形区”,仿真中需加入蠕变模型(而非仅弹性模型),否则会低估焊料的疲劳寿命(实际焊料在热循环下会因蠕变失效)。

3. 对电仿真的影响

电仿真关注 “导通电阻、寄生电感”,材料参数的影响:

  • 电导率(σ)

    • Cu 的电导率(~5.96×10⁷ S/m)是核心,AMB 基板的 Cu 层厚度直接影响 “载流能力”;若 Cu 层厚度设置过薄,会高估导通电阻、低估电流承载能力。
  • 寄生电感

    • 封装结构的几何尺寸(Cu 层宽度、焊料长度)是关键,但材料的磁导率(μ)也有影响:Cu 是非磁性材料(μ=μ₀),仿真中需准确设置以计算 “回路电感”,避免功率器件的开关噪声预测偏差。

 3 AMB 基板 vs DBC 基板对仿真的差异化影响

结合 AMB/DBC 的特性,两种基板在仿真中的差异显著:

仿真维度
AMB 基板(Si₃N₄)
DBC 基板(Al₂O₃)
热仿真 - 结温
低(k≈90)
高(k≈20)
热仿真 - 热阻分布
热阻集中在焊料
热阻集中在陶瓷 + 焊料
应力仿真 - 界面应力
低(CTE 匹配 SiC)
高(CTE 与 SiC 差异大)
可靠性仿真 - 寿命
长(抗热循环能力强)
短(易分层)
成本仿真 - 物料成本

碳化硅模块以氮化硅(Si3N4)AMB为主。

氮化铝:散热更好、材料脆(易裂)、出流略好。=》SIC MOS

氮化硅:硬度高、出流略差、散热略差=》可靠性更高=》SIC MOS

氧化铝/氧化锆:散热差、成本低、可靠性差=》IGBT使用


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