明古微半导体
MGME SEMICONDUCTOR
碳化硅功率器件+电驱方案
新能源汽车.充电桩.工业电源.光伏储能.电力电子.低空飞行器...

国产碳化硅 就找明古微
技术学院
STUDY

当行业热议SiC芯片的性能突破时,一个常被忽视的真相是:芯片决定性能上限,封装决定实现下限。在电动汽车主驱逆变器、风光储变流器等高可靠性场景中,封装技术已成为功率模块的“卡脖子”环节。
本文将从封装工程师的实战视角,深度拆解功率模块封装的三大核心:基板技术(DBC vs AMB)、芯片贴装(软钎焊 vs 银烧结)、互连技术(铝线 vs 直接端子键合),并探讨这些技术如何共同定义模块的功率循环寿命与热管理极限。

基板在功率模块中承担着“承上启下”的功能——上承芯片散热,下接系统绝缘。基板的可靠性,直接决定了模块能否在数千次热循环后依然保持结构完整。
DBC(直接键合铜)技术诞生于上世纪80年代,其工艺核心是将铜箔在高温(1065°C以上)下直接键合到陶瓷表面。键合机理是利用铜氧共晶液相填充陶瓷与铜的界面,形成机械咬合与化学键合。
材料体系:
陶瓷层:通常为氧化铝(Al₂O₃)或氮化铝(AlN)
铜层:无氧铜,厚度0.3mm-0.8mm
工艺优势:
技术成熟度高,成本可控
氧化铝DBC在工业变频、家电等场景经过数十年验证
可靠性短板:
DBC的痛点在于界面热应力。铜的热膨胀系数约为17ppm/K,而氧化铝仅为7ppm/K,氮化铝约4.5ppm/K。在功率循环中,这种热膨胀差异会在界面处产生巨大的剪切应力。
失效模式通常是两种:
陶瓷层开裂——当应力超过陶瓷的断裂韧性时,裂纹从边缘萌生并向内部扩展
铜箔剥离——界面处的疲劳损伤累积,最终导致分层
对于需要承受数万次主动力循环的电动汽车主驱模块而言,DBC往往成为整个模块的可靠性短板。
AMB(活性金属钎焊)技术通过引入一层活性钎料,彻底重构了金属与陶瓷的连接方式。
工艺本质:
AMB不是“键合”,而是“钎焊”。在高温下,含有Ti、Zr、Hf等活性元素的钎料熔化并润湿陶瓷表面,活性元素与陶瓷发生化学反应,形成几微米厚的反应层,实现化学冶金结合。
材料革命:
AMB基板的陶瓷层几乎全部采用氮化硅。原因有三:
断裂韧性:氮化硅的断裂韧性可达6-8 MPa·m¹/²,是氧化铝的2-3倍,是氮化铝的4倍以上。这意味着裂纹在氮化硅中扩展需要消耗更多能量。
抗弯强度:氮化硅的抗弯强度通常在800 MPa以上,远高于氧化铝的300-400 MPa。
热膨胀匹配:氮化硅的热膨胀系数约2.7-3.1 ppm/K,介于硅芯片与铜之间,在温度变化时产生的界面应力更小。
可靠性跃升:
AMB工艺形成的界面结合强度远高于DBC。氮化硅的高韧性+AMB的高界面强度,使AMB基板的功率循环寿命通常是DBC的5-10倍。
行业共识:
当前主流车规级SiC模块——无论是特斯拉的Model 3逆变器,还是比亚迪e平台3.0的SiC模块——均采用AMB氮化硅基板。这已成为1200V级以上、工作结温175°C以上场景的事实标准。
芯片贴装层是热量从芯片流向基板的第一道关口,也是功率循环中应力最集中的区域之一。
DTS(芯片贴装系统)在传统功率模块中主要指软钎焊工艺。
材料体系:
焊料类型:SAC305(Sn96.5Ag3Cu0.5)等高锡基焊料
形态:焊膏或预制焊片
物理极限:
熔点限制:SAC焊料熔点约217°C,当芯片结温接近175°C时,焊料已处于高蠕变速率区,抗疲劳性能急剧下降。
导热瓶颈:焊料导热系数通常在50-70 W/m·K,仅为铜的1/6-1/7,成为散热链中的“堵点”。
热疲劳机制:在功率循环中,焊料层内部会形成微空洞,空洞连接成裂纹,最终导致芯片与基板分离。
对于SiC这类可以在250°C结温下工作的宽禁带器件,传统焊料已完全无法满足可靠性要求。
银烧结技术的本质并非“焊接”,而是“烧结”——通过温度、压力或化学驱动力使银微粒形成致密连接体。
材料机理:
使用微米级或纳米级银颗粒,表面包裹有机分散剂
在烧结温度下(通常200°C-300°C),有机分散剂挥发或分解
高表面能的银颗粒之间发生原子扩散,形成三维多孔网络结构
随着烧结进行,孔隙率降低,致密度提升
工艺分类:
1. 有压银烧结
工艺窗口:烧结温度230°C-280°C,压力10-40 MPa,保温时间1-5分钟
优势:可获得极低孔隙率(<5%),导热系数可达200-300 W/m·K
局限:需专用夹具,对芯片厚度一致性要求高,存在碎片风险
2. 无压银烧结
工艺窗口:烧结温度250°C-300°C,无外加压力,保温时间30-60分钟
优势:设备复杂度低,适合薄芯片、敏感结构
挑战:依赖纳米银膏的高活性,对表面清洁度和氧化层极敏感,孔隙率通常高于有压工艺
性能跃升:
热阻:银烧结层热阻约为软钎焊层的1/15
熔点:烧结银熔点961°C,意味着在250°C工作时仍处于“冷态”
抗疲劳性:单面银烧结可使模块寿命提升5-10倍,双面银烧结可提升10倍以上
应用案例:
爱仕特科技为光伏应用开发的全SiC模块,采用银烧结连接芯片与基板,同时用铜接头代替键合线,在结温175°C下模块寿命相比传统结构提高10倍以上。
芯片的电信号如何引出,直接决定了模块的寄生电感和电流承载能力。
铝线超声键合是功率模块数十年的主流互连方式。
工艺原理:
利用超声波(60-120 kHz)和压力,使铝线与焊盘界面发生塑性变形
变形破坏表面氧化层,实现金属间接触
键合过程通常在室温或略高于室温下进行
材料选择:
线径范围:100-500 μm
材料类型:高纯铝或AlSi1合金
优势:与铝焊盘同种金属键合,避免金属间化合物问题
失效模式:
根部开裂——功率循环中,铝线与芯片界面处的热膨胀差异导致应力集中,裂纹从根部萌生并扩展
键合点剥离——金属间化合物过度生长(如与镀Ni层的反应)导致界面脆化
电迁移——极高电流密度下,铝原子沿电子流方向迁移,形成空洞
对于1200V/800A级的大功率模块,数十根铝线并联不仅占用空间,更引入显著的寄生电感和电阻。
这正是文献中提到的“用铜接头代替键合线”所指的技术。
工艺实现:
将预成型的铜端子(通常为表面镀银的铜块)通过银烧结或超声波焊接直接连接到芯片正面
连接面积远大于键合线,实现“面接触”取代“线接触”
技术优势:
1. 寄生参数优化
消除键合线带来的寄生电感,模块内部电感可降低至5 nH以下
更低的导通电阻,减少导通损耗
2. 双面散热
芯片正面通过铜端子直接连接散热器,背面通过银烧结连接基板
热阻可降低30%以上,模块功率密度提升或体积减小35%
3. 可靠性跃升
消除了键合线这一最薄弱的环节,功率循环寿命可提升10倍以上
适合高温、高振动工况
工艺挑战:
芯片与铜端子的热膨胀系数差异大,需通过金属缓冲层缓解应力
对芯片正面金属化层的厚度和均匀性要求极高
工艺良率控制难度大
将上述技术整合,可以勾勒出下一代高性能、高可靠性功率模块的技术画像:
基板层:AMB氮化硅基板——保障数千次功率循环后的结构完整
芯片贴装层:银烧结——实现低热阻、高熔点、抗疲劳的芯片连接
互连层:直接端子键合/铜连接器——消除键合线瓶颈,实现双面散热
技术协同:
银烧结与AMB氮化硅基板的热膨胀系数匹配,减少界面应力
直接端子键合与银烧结的工艺温度窗口兼容,可实现一次烧结完成多界面连接
产业验证:
比亚迪e3.0平台采用国产纳米银焊膏,剪切强度达35 MPa,每车封装成本降低2000元
某车企采用普仁烧结银热界面材料后,激光雷达芯片结温降低10°C,寿命延长50%
赛米控SKiNTER技术采用银烧结+铜连接器,功率循环能力提升2-3倍
当前国内功率模块封装产业正处于从“中低端替代”向“高端突破”的关键期。
材料端:
纳米银焊膏:善仁新材、聚峰国际等企业已实现量产,在部分车型中替代田中贵金属,价格降至进口1/3
AMB氮化硅基板:少数企业已通过车规级认证,但良率和可靠性仍需积累
设备端:
银烧结设备:快克智能实现国产突破,在比亚迪SiC模块中良率99.2%,接近进口水平
铝线键合机:奥特维设备在华润微产线良率超99.98%,单线UPH达9k
工艺端:
双面银烧结:部分头部封测厂已实现小批量量产
低温无压烧结:180°C烧结技术已在车载激光雷达等场景应用
挑战仍存:
高端混合键合设备仍依赖进口,亚微米级对准精度差距明显
银烧结材料的核心配方仍掌握在少数海外企业手中
车规级可靠性数据积累不足,高端客户信任度建立需要时间
在后摩尔时代,芯片性能的发挥越来越依赖于封装技术。对于功率半导体而言,封装已从“保护壳”演变为“性能定义者”。
技术趋势清晰可见:
基板:从DBC走向AMB氮化硅
贴装:从软钎焊走向银烧结
互连:从铝线走向直接端子键合
这三条技术路径的交汇点,正是下一代SiC功率模块的封装底座。当芯片级性能逼近物理极限时,封装技术的每一次突破,都在重新定义功率系统的效率与可靠性边界。
对于封装工程师而言,这是一个充满挑战的时代——热、力、电、可靠性,每一个维度都需要在微米尺度求解;这也是一个充满机遇的时代——每一次技术突破,都在为更高效的能源转换系统铺路。
欢迎行业专业人士在评论区讨论互动!【抛砖引玉 . 筑巢引凤】
免责声明:1)来源:本公众号文章及图片均来自公开网络,旨在分享,不代表本号观点或对真实性负责。2)版权:若转载内容涉及版权,请原作者联系我们,将及时删除。3)责任:用户使用文章内容时需自行判断,因内容引发的所有损失,本号不承担法律责任。4)解释:本声明的最终解释权归本公众号所有,未尽事宜以法律法规为准。
国产碳化硅,就找明古微——感谢深圳市明古微半导体有限公司长期对本公众号的赞助与支持,深圳市明古微半导体有限公司作为爱仕特科技碳化硅MOS/SBD、中科本原DSP、乐山希尔整流桥堆/FRD等的核心代理商,与其深度合作并联合开发功率模块及电驱、储能系统,为电动汽车、OBC、DC-DC、充电桩、光伏逆变、SVG、PCS、工业电源、家电变频等能源产业提供完整解决方案,更多信息请登录:www.mgmsemi.com
SiC MOS
更多信息请关注
微信公众号
邮箱:ymq@mgmsemi.com
深圳:深圳市光明区光明街道华强科技生态园5A栋1216
成都:成都市高新区双柏路68号汇创天下科技园西区1栋9层907
长沙:长沙市岳麓区麓谷科技创新创业园A1栋2404
上海:上海市闵行区万源路2161弄150号1号楼318
菲律宾:12 Ibayo St, Manila, Metro Manila, Philippines